[发明专利]用于分配气体的装置和用于处理基板的装置

摘要

本发明涉及用于基板处理设备的气体喷雾器及基板处理设备，其包括：等离子体产生部，用于产生等离子体，以便在由基板支撑部支撑的基板上执行处理工艺；接地体，接地体与等离子体产生部耦接；以及等离子体屏蔽部，用于屏蔽由等离子体产生部产生的等离子体，其中，等离子体产生部包括：第一电极，用于产生等离子体；以及第二电极，第二电极在与第一电极间隔开的位置处耦接至接地体，以便在第二电极和第一电极之间的空间中形成用于喷射工艺气体的气体喷射空间，并且其中，等离子体屏蔽部从基板的内部和/或外部屏蔽由等离子体产生部产生的等离子体。

主权项

1.一种基板处理装置，包括：处理室；基板支撑单元，所述基板支撑单元安装在所述处理室中以支撑多个基板，所述基板支撑单元围绕转轴旋转；室盖，所述室盖覆盖所述处理室的上部；等离子体发生器，所述等离子体发生器朝向所述基板支撑单元产生等离子体；以及等离子体屏蔽器，所述等离子体屏蔽器在所述基板的顶部和所述基板的底部中的至少一个中屏蔽由所述等离子体发生器产生的所述等离子体。