[发明专利]超临界水氧化反应器及工艺有效
申请号: | 201780045249.6 | 申请日: | 2017-05-19 |
公开(公告)号: | CN109790049B | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 蔡卓岩 | 申请(专利权)人: | 爱夸登技术APS公司 |
主分类号: | C02F1/04 | 分类号: | C02F1/04;B01J3/00;C02F11/08;B01D3/02;B01D3/04;B01D1/00;C02F1/72 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 陈红;郑焱 |
地址: | 丹麦斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及超临界水氧化反应器和控制这种反应器的方法,所述反应器适于在反应器内部包含处于超临界状态之下和之上的含水流体,所述流体包含有机和/或无机材料。 | ||
搜索关键词: | 临界 氧化 反应器 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种超临界水氧化反应器(1),所述超临界水氧化反应器(1)适于在所述反应器(1)内部包含处于超临界状态之下和之上的含水流体,所述流体包含有机和/或无机材料,其中所述反应器(1)包括:反应器主体(2),所述反应器主体(2)呈细长管状元件的形式,在使用期间,其纵向延伸平行于或实质上平行于重力,所述反应器主体(2)在其上端和下端封闭,从而在所述反应器主体(2)内限定了腔体(3);残渣输出连接(4),所述残渣输出连接(4)具有布置在所述腔体(3)内的第一竖直高度(h1)处的入口(5)并且具有布置在所述反应器主体(2)外部的出口(6),所述残渣输出连接(4)从其入口(5)向下朝向所述反应器的下部延伸;馏出物输出连接(7),所述馏出物输出连接(7)具有布置在所述腔体(3)内的第二竖直高度(h2)处的入口(8)并且具有布置在所述反应器主体(2)外部的出口(9),所述第二竖直高度(h2)高于所述第一竖直高度(h1),所述馏出物输出连接(7)从其入口(8)向下朝向所述反应器的下端延伸;含水流体入口连接(10),所述含水流体入口连接(10)布置在所述反应器主体的下端,用于将要进入超临界状态和要处于超临界状态之上的含水流体引入所述腔体(3)中;多个独立可控的热元件(11),所述多个独立可控的热元件(11)布置在所述第一竖直高度(h1)下方,位于所述反应器主体(2)中和/或所述腔体(3)内,并且适于提供进入/离开所述腔体(3)的可独立控制的热通量,以便对所述腔体(3)内的流体施加竖直温度分布,多个温度传感器(14)和/或盐浓度传感器(15),所述多个温度传感器(14)布置成在包括所述第一竖直高度(h1)上方的位置和所述第一竖直高度(h1)下方的位置在内的多个不同的竖直位置处测量流体温度或所述反应器主体的温度,所述盐浓度传感器(15)布置成测量流经所述残渣输出连接(4)的流体中的盐浓度。
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