[发明专利]硫属元素化物溅射靶及其制备方法有效
| 申请号： | 201780047776.0 | 申请日： | 2017-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN109563613B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·R·品特 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34;C22C1/05 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 马蔚钧;万雪松 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一个实施方案中，物理气相沉积设备包括相变材料溅射靶，该相变材料溅射靶包括主基质和至少一个附加相。该主基质包含来自元素周期表的第VI族的除氧以外的至少一种元素和来自元素周期表的第IV族或第V族的一种或多种元素。该附加相基本上均匀地分散在主基质中。 | ||
| 搜索关键词： | 元素 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积设备，包括相变材料溅射靶，所述相变材料溅射靶包括：主基质，所述主基质包含来自元素周期表的第VI族的除氧以外的至少一种元素和来自元素周期表的第IV族或第V族的一种或多种元素；以及基本上均匀地分散在所述主基质中的至少一个附加相。
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