[发明专利]在成像系统中控制透镜失准

摘要

本发明提供了一种成像系统，该成像系统包括使用成像系统(20)对场景成像，该成像系统包括辐射感测元件的阵列(24)和被配置为将来自场景的辐射聚焦到阵列上的光学器件(22)，该辐射感测元件包括具有对称角响应的第一感测元件(40)和散布于第一感测元件之间、具有非对称角响应的第二感测元件(46,54,60,62)。该方法还包括处理由第一感测元件输出的第一信号，以便识别阵列上均匀辐照度的一个或多个区域；并处理位于所识别区域中的第二感测元件输出的第二信号，以便检测光学器件与阵列的失准。

主权项

1.一种用于成像的方法，包括：使用成像系统对场景成像，所述成像系统包括辐射感测元件的阵列和被配置为将来自所述场景的辐射聚焦到所述阵列上的光学器件，所述辐射感测元件的阵列包括具有对称角响应的第一感测元件和散布于所述第一感测元件之中、具有非对称角响应的第二感测元件；处理由所述第一感测元件输出的第一信号，以便识别所述阵列上均匀辐照度的一个或多个区域；以及处理由位于所识别区域中的所述第二感测元件输出的第二信号，以便检测所述光学器件与所述阵列的失准。