[发明专利]光束控制部件、发光装置及照明装置有效

专利信息
申请号: 201780048494.2 申请日: 2017-06-08
公开(公告)号: CN109563979B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: M·H·叶海亚 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: F21V5/08 分类号: F21V5/08;A01G7/00;F21V5/00;F21V5/02;F21V33/00;G02B3/08;H01L33/58;F21Y115/10
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 温剑;陈英俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 照明装置(300)具有被照射面(310)和在该被照射面(310)的正上方倾斜地配置的发光装置(200)。发光装置(200)具有发光元件(210)和光束控制部件(100)。光束控制部件(100)将发光元件(210)的出射光配光为比发光元件(210)的光轴(OA)更朝向上方的光和更朝向下方的光。朝向上方的光的光轴与光轴(OA)所成的角度θ1的绝对值比朝向下方的光的光轴与光轴(OA)所成的角度θ2的绝对值小。
搜索关键词: 光束 控制 部件 发光 装置 照明
【主权项】:
1.一种光束控制部件,其用于对从发光元件射出的光的配光进行控制,其中,具有:入射区域,用于在与所述发光元件相对地配置时使来自所述发光元件的出射光入射;以及出射区域,相对于所述入射区域配置于与所述发光元件相反的一侧,使入射至所述入射区域的光射出,所述入射区域包括:第一控制部,至少配置于包含作为所述光束控制部件的光学基准的基准轴的所述光束控制部件的剖面中的、由所述基准轴划分的两个区域中的一方侧,用于以使入射至所述入射区域的光以比所述基准轴更倾向一方侧的方向从所述出射区域射出的方式,控制来自所述发光元件的出射光,该基准轴与所述发光元件的光轴重合;以及第二控制部,至少配置于所述剖面中的所述两个区域中的另一方侧,用于以使入射至所述入射区域的光以比所述基准轴更倾向另一方侧的方向从所述出射区域射出的方式,控制来自所述发光元件的出射光,所述第二控制部具有折射入射面,该折射入射面使来自所述发光元件的出射光以相对于所述基准轴的角度变小的方式,向所述光束控制部件内折射并入射,表示所述剖面中的来自所述出射区域的出射光的每个射出方向的光度的配光曲线中包含:经过了所述第一控制部的光的、从所述出射区域射出的出射光所形成的第一峰值;和经过了所述第二控制部的光的、从所述出射区域射出的出射光所形成的第二峰值,所述第一峰值相对于所述基准轴的角度θ1的绝对值比所述第二峰值相对于所述基准轴的角度θ2的绝对值小。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩普乐股份有限公司,未经恩普乐股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780048494.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top