[发明专利]抗EGFR抗体药物偶联物在审

专利信息
申请号: 201780048518.4 申请日: 2017-06-07
公开(公告)号: CN109562190A 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: E.R.博黑尔特;A.S.朱德;A.C.菲利普斯;A.J.索尔斯;M.布伦科 申请(专利权)人: 艾伯维公司
主分类号: A61K47/68 分类号: A61K47/68;A61P35/00;C07K16/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 权陆军;周齐宏
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及抑制Bcl‑xL的抗表皮生长因子受体(EGFR)抗体药物偶联物(ADC);包括使用所述ADC的组合物和方法。
搜索关键词: 抗表皮生长因子受体 抗EGFR抗体 药物偶联物 抗体药物 偶联物
【主权项】:
1.一种抗人表皮生长因子受体(hEGFR)抗体药物偶联物(ADC),其包含通过接头的方式与抗人表皮生长因子(hEGFR)抗体连接的药物,其中该药物是根据结构式(IIa)或(IIb)的Bcl‑xL抑制剂:其中:Ar1选自并且任选地被一个或多个独立地选自以下的取代基取代:卤基、羟基、硝基、低级烷基、低级杂烷基、C1‑4烷氧基、氨基、氰基和卤代甲基;Ar2选自并任选地被一个或多个独立地选自以下的取代基取代:卤基、羟基、硝基、低级烷基、低级杂烷基、C1‑4烷氧基、氨基、氰基和卤代甲基,其中式(IIb)的#‑N(R4)‑R13‑Z2b‑取代基在Ar2的任何能够被取代的原子处附接至Ar2;Z1选自N、CH、C‑卤基和C‑CN;Z2a、Z2b、和Z2c各自彼此独立地选自键、NR6、CR6aR6b、O、S、S(O)、SO2、NR6C(O)、NR6aC(O)NR6b、和NR6C(O)O;R1选自氢、甲基、卤基、卤代甲基、乙基和氰基;R2选自氢、甲基、卤基、卤代甲基和氰基;R3选自氢、低级烷基和低级杂烷基;R4选自氢、低级烷基、单环环烷基、单环杂环基、和低级杂烷基,或与R13的原子一起形成具有3和7个之间的环原子的环烷基或杂环基环,其中该低级烷基、单环环烷基、单环杂环基、和低级杂烷基任选地被一个或多个卤基、氰基、羟基、C1‑4烷氧基、单环环烷基、单环杂环基、C(O)NR6aR6b、S(O)2NR6aR6b、NHC(O)CHR6aR6b、NHS(O)CHR6aR6b、NHS(O)2CHR6aR6b、S(O)2CHR6aR6b或S(O)2NH2基团取代;R6、R6a和R6b各自彼此独立地选自氢、低级烷基、低级杂烷基、任选地取代的单环环烷基和单环杂环基,或与来自R13的原子一起形成具有3和7个之间的环原子的环烷基或杂环基环;R10选自氰基、OR14、SR14、SOR14、SO2R14、SO2NR14aR14b、NR14aR14b、NHC(O)R14和NHSO2R14;R11a和R11b各自彼此独立地选自氢、卤基、甲基、乙基、卤代甲基、羟基、甲氧基、CN、和SCH3;R12选自氢、卤基、氰基、低级烷基、低级杂烷基、环烷基、和杂环基,其中该烷基、杂烷基、环烷基、和杂环基任选地被一个或多个卤基、氰基、C1‑4烷氧基、单环环烷基、单环杂环基、NHC(O)CHR6aR6b、NHS(O)CHR6aR6b、NHS(O)2CHR6aR6b或S(O)2CHR6aR6b基团取代;R13选自键、任选地取代的低级亚烷基、任选地取代的低级杂亚烷基、任选地取代的环烷基、或任选地取代的杂环基;R14选自氢、任选地取代的低级烷基、和任选地取代的低级杂烷基;R14a和R14b各自彼此独立地选自氢、任选地取代的低级烷基、和任选地取代的低级杂烷基,或与它们所键合的氮原子一起形成任选地取代的单环环烷基或单环杂环基环;R15选自氢、卤基、C1‑6链烷基、C2‑4烯基、C2‑4炔基、以及C1‑4卤代烷基和C1‑4羟烷基,条件是当R15存在时,R4不是C1‑4烷基、C2‑4烯基、C2‑4炔基、C1‑4卤代烷基或C1‑4羟烷基,其中该R4 C1‑6链烷基、C2‑4烯基、C2‑4炔基、C1‑4卤代烷基和C1‑4羟烷基任选地被一个或多个独立地选自以下的取代基取代:OCH3、OCH2CH2OCH3、和OCH2CH2NHCH3;并且#代表与接头的附接点;并且其中该抗hEGFR抗体具有以下特征:该抗体结合氨基酸序列CGADSYEMEEDGVRKC(SEQ ID NO:45)内的表位或在竞争性结合分析中与第二抗hEGFR抗体竞争结合表皮生长因子受体变体III(EGFRvIII)(SEQ ID NO:33),其中第二抗EGFR抗体包含含有SEQ ID NO:1中所示氨基酸序列的重链可变域和含有SEQ ID NO:5中所示氨基酸序列的轻链可变域;并且该抗体与EGFR(1‑525)(SEQ ID NO:47)结合,如通过表面等离子体共振所测定的,解离常数(Kd)为约1x 10‑6M或更低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾伯维公司,未经艾伯维公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780048518.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top