[发明专利]用于有机光电装置的含有酞酰亚胺和咔唑或其类似物的化合物在审
申请号: | 201780048607.9 | 申请日: | 2017-08-01 |
公开(公告)号: | CN109661390A | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | S·赛弗尔曼;M·丹茨;D·福尔茨 | 申请(专利权)人: | 辛诺拉有限公司 |
主分类号: | C07D403/04 | 分类号: | C07D403/04;H01L51/50 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 董巍;孔维青 |
地址: | 德国布*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明系关于式A1之纯有机分子以及关于其在光电装置中的用途。 | ||
搜索关键词: | 有机光电装置 光电装置 酞酰亚胺 有机分子 类似物 咔唑 | ||
【主权项】:
1.一种有机分子,其包含式A1的结构其中,A在各情况下独立地为CRb或N;RN为甲基、苯基、甲苄基、均三甲苯基、萘基、联苯基、萘基苯基、联三苯基或2,4,6‑三苯基苯基;Ra在各情况下独立地为H、氘、烷基或芳基;Rb在各情况下独立地选自由以下所组成的组:‑H、‑氘、‑CF3、‑C(=O)R1、‑CN、‑未经取代或经一或多个R2取代的烷基、‑芳基,其为未经取代或经一或多个R2取代并且任意地另外经一或多个未经取代的烷基和/或经一或多个未经取代或经烷基取代的芳基取代、‑杂芳基,其为未经取代或经R2和/或经一或多个未经取代的烷基和/或经一或多个未经取代或经烷基取代的芳基取代、以及‑子式T1的基团或子式T2的基团:其中,RN2为烷基、未经取代或经一或多个RN3取代的芳基、或未经取代或经一或多个RN3取代的杂芳基;RN3为烷基、芳基或杂芳基;R1在各情况下为未经取代或经一或多个R2取代的芳基;R2在各情况下独立地为F、CF3或CN;其中,一至四个A为N,或至少一个Rb选自由以下所组成的组:‑CF3、‑C(=O)R1、‑CN、‑经一或多个R2取代的烷基、‑芳基,其经一或多个R2取代,并且任意地另外经一或多个未经取代的烷基和/或经一或多个未经取代或经烷基取代的芳基取代、‑杂芳基,其为未经取代或经一或多个R2和/或经一或多个未经取代的烷基和/或经一或多个未经取代或经烷基取代的芳基取代、以及‑子式T1的基团或子式T2的基团:以及其中,#表示子式T1或T2的基团经由单键连接的位置。
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