[发明专利]介电沟槽波导在审
申请号: | 201780049301.5 | 申请日: | 2017-08-03 |
公开(公告)号: | CN109565101A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | J·利尔加 | 申请(专利权)人: | 微软技术许可有限责任公司 |
主分类号: | H01P3/16 | 分类号: | H01P3/16 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈斌;胡利鸣 |
地址: | 美国华*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了一种电气设备,包括:具有沟槽的导电底盘,其中该导电底盘包括该电气设备的壳体或框架;以及被填充在沟槽内的介电材料;其中该沟槽被配置为波导并传送该电气设备的信号。这种类型的波导也被称为插入式介电波导,或即IDG。 | ||
搜索关键词: | 波导 电气设备 导电底盘 介电材料 介电沟槽 插入式 介电 壳体 填充 传送 配置 | ||
【主权项】:
1.一种电气设备,包括:具有沟槽的导电底盘,其中所述导电底盘包括所述电气设备的壳体或框架;以及被填充在所述沟槽内的介电材料;其中所述沟槽被配置为波导并传送所述电气设备的信号。
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