[发明专利]光线集中器有效
| 申请号： | 201780049642.2 | 申请日： | 2017-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN109891149B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 唐恩乐 | 申请（专利权）人： | 唐恩乐 |
| 主分类号： | F21S11/00 | 分类号： | F21S11/00;G02B19/00;H01L31/05 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 陈岚 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供光学装置以及使用光学装置的系统，其中光学装置可配置用于校准入局光线。光学装置可包括基本上由透明材料所组成的主介质以及嵌入主介质内的基本上透明结构的阵列。阵列的结构每个包括呈现给入局光线的凸面侧以及使光线朝主介质的输出面通过的凹面侧，从而校准射线。阵列的多级可在光学装置中提供，通常沿从输入面朝输出面的方向具有延长长宽比和增加折射率。系统可使用光学装置，用于将外部光用来照射建筑物中的内部空间或者用来发电。 | ||
| 搜索关键词： | 光线 集中器 | ||
【主权项】：
1.一种具有输入面和输出面的光学装置，所述光学装置配置用于校准以宽范围的入射角到达所述输入面的入局光线，所述光学装置包括：a. 主介质，基本上由透明材料所组成，所述主介质提供所述输入面和所述输出面；b. 嵌入所述主介质内的基本上透明结构的第一阵列，所述第一阵列与所述主介质的所述输入面基本上平行，并且其中所述第一阵列的所述结构每个包括呈现给所述入局光线的凸面侧以及使光线朝所述主介质的所述输出面通过的凹面侧。
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