[发明专利]用于支撑基板的基板载体、掩模夹持设备、真空处理系统和操作基板载体的方法在审
| 申请号： | 201780051374.8 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN110073481A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 安德里亚斯·索尔;迈克尔·雷纳·舒尔特海斯;沃尔夫冈·布什贝克;安德里亚斯·勒普;马蒂亚斯·赫曼尼斯;塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容提供了根据独立权利要求的一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体、一种掩模夹持设备、一种真空处理系统和一种用于操作电永磁体元件的方法。根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体。所述基板载体包括电永磁体元件，其中所述电永磁体元件被配置为用于向掩模施加磁保持力。根据本公开内容的另一方面，提供了一种真空处理系统。所述真空处理系统包括真空处理腔室，所述真空处理腔室具有根据本公开内容的其它方面的至少一个基板载体或掩模夹持设备。根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于在包括电永磁体元件的系统中操作电永磁体元件的方法。所述方法包括：在由所述基板载体支撑的基板的表面上提供掩模载体；通过施加电磁体的电流将所述电永磁体元件从非磁化状态切换到磁化状态；以及移除所述电流。 | ||
| 搜索关键词： | 基板载体 永磁体 真空处理系统 掩模夹 基板 真空处理腔室 真空腔室 中支撑 掩模 施加 非磁化状态 操作基板 磁保持力 磁化状态 内容提供 支撑基板 电磁体 移除 配置 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体，包括：电永磁体元件，被配置为用于向掩模施加磁保持力。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
