[发明专利]含有异形二氧化硅纳米粒子的气体分离膜有效
| 申请号： | 201780051891.5 | 申请日： | 2017-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN109641185B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 川上浩良;田中学;龟山百合;工藤雄贵;三上宽翔;伊左治忠之;小高一利;菊池隆正 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社;公立大学法人首都大学东京 |
| 主分类号： | B01D71/70 | 分类号： | B01D71/70;B01D71/24;B01D71/26;B01D71/44;B01D71/52;B01D71/64;B01D71/68;C01B33/146 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及气体分离膜，其特征在于含有：附加有超支化高分子或树枝状高分子的异形二氧化硅纳米粒子，其是在异形二氧化硅纳米粒子的表面附加超支化高分子或树枝状高分子而形成的；和基体树脂。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 异形 二氧化硅 纳米 粒子 气体 分离 | ||
【主权项】：
1.气体分离膜，其特征在于，含有：附加有超支化高分子或树枝状高分子的异形二氧化硅纳米粒子，其是在异形二氧化硅纳米粒子的表面附加超支化高分子或树枝状高分子而形成的；和基体树脂。
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