[发明专利]金属掩模用原材料及其制造方法有效
| 申请号： | 201780052358.0 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109642289B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 大森章博;冈本拓也;饭田恭之 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C22C38/00 | 分类号： | C22C38/00;C22C38/08;C21D9/46 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区港南一丁目2*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抑制蚀刻后的形状变化，并且具有更良好的蚀刻性的金属掩模用原材料及其制造方法。一种金属掩模用原材料，轧制方向上的表面粗糙度及与轧制方向正交的方向上的表面粗糙度均为0.05μm≤Ra≤0.25μm，Rz≤1.5μm，偏度Rsk不足0，自所述金属掩模用原材料切取长度150mm、宽度30mm的试样，对所述试样从单侧进行蚀刻，除去所述试样的板厚的60％时的翘曲量为15mm以下，板厚为0.01mm以上且不足0.10mm。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 掩模用 原材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩模用原材料，以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质，其中，所述金属掩模用原材料中，轧制方向上的表面粗糙度及与轧制方向正交的方向上的表面粗糙度均为0.05μm≤Ra≤0.25μm、Rz≤1.5μm以下，偏度Rsk不足0，自所述金属掩模用原材料切取长度150mm、宽度30mm的试样，对所述试样从单侧进行蚀刻，除去所述试样的板厚的60％时的翘曲量为15mm以下，板厚为0.01mm以上且不足0.10mm。
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