[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法有效
| 申请号： | 201780052785.9 | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN109643061B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 小岛雅史;浅川大辅;后藤研由;加藤启太;王惠瑜 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种保存稳定性优异且形成有抗蚀剂图案时的图案线宽的波动(LWR)较小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸的化合物及树脂。抗蚀剂膜由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成。图案形成方法及电子器件的制造方法中使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。 |
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| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：化合物，通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸；及树脂，![]()
上述式(I)中，R1表示碳原子数1以上的有机基团，R2表示碳原子数2以上的有机基团，Rf表示氟原子或含有氟原子的1价有机基团，X表示2价吸电子基团，n表示0或1。
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