[发明专利]用于基于模板的图像分析的系统和方法有效
申请号: | 201780052795.2 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN109643453B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 保拉·卡伦·格德雷蒂斯 | 申请(专利权)人: | 分子装置有限公司 |
主分类号: | G06T7/73 | 分类号: | G06T7/73 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张娜;李荣胜 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种基于模板的图像分析系统和方法。载玻片被装载在高内涵成像系统(HCIS)中,其中,载玻片包括多个参考标志和多个样本位置。获取图像数据存储中存储有先前获取的图像。图像获取模块从高内涵成像系统获取载玻片的图像。特征识别模块产生获取图像的二值图像,其中二值图像识别与参考标志相关联的区域。模板生成模块根据先前获取的图像产生模板,并且模板对齐模块将所产生的模板与二值图像对齐。偏移计算模块确定模板与二值图像之间的偏移,并且图像分割模块根据计算的偏移确定获取图像的与样本位置相关联的像素的坐标。 | ||
搜索关键词: | 用于 基于 模板 图像 分析 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于模板的图像分析系统,包括:高内涵成像系统;装载在所述高内涵成像系统中的载玻片,其中,所述载玻片包括多个参考标志和多个样本位置;获取图像数据存储,其中存储有先前获取的图像;图像获取模块,其从所述高内涵成像系统获取所述载玻片的图像;特征识别模块,其产生获取图像的二值图像,其中所述二值图像识别与参考标志相关联的区域;模板生成模块,其根据所述先前获取的图像产生模板;模板对齐模块,其将所产生的模板与所述二值图像对齐;偏移计算模块,其确定所述模板与所述二值图像之间的偏移;以及图像分割模块,其根据计算的偏移确定所述获取图像的与所述样本位置相关联的像素的坐标。
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