[发明专利]激光修复方法和激光修复设备在审
| 申请号： | 201780053942.8 | 申请日： | 2017-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN109661614A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 张耀宇;王小文;王彤 | 申请（专利权）人： | 深圳市柔宇科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;B08B7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种激光修复方法和设备，用于去除基板(20)上的杂质(30)，激光修复方法包括步骤：获取一个杂质(30)在基板(20)上的初始位置(S1)；轰击位于初始位置的杂质(30)(S2)；以初始位置为中心检测基板(20)的周缘位置是否有残留杂质(32)(S3)，周缘位置环绕初始位置；若周缘位置有残留杂质(32)，则轰击位于周缘位置的残留杂质(32)(S4)。 | ||
| 搜索关键词： | 周缘位置 激光修复 基板 残留 轰击 激光修复设备 方法和设备 中心检测 去除 环绕 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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