[发明专利]用于基板处理设备的气体喷涂设备及基板处理设备

摘要

本发明涉及一种用于基板处理设备的气体分配设备以及基板处理设备，所述气体分配设备包括：分配体，向对基板进行支撑的基板支撑单元分配处理气体；第一注入孔，设置在分配体中，向基板支撑单元分配的处理气体经由第一注入孔注入；以及第二注入孔，设置在分配体中在与第一注入孔间隔开的位置处，向基板支撑单元分配的处理气体经由第二注入孔被注入。

主权项

1.一种基板处理设备，包括：处理腔室；基板支撑单元，所述基板支撑单元安装在所述处理腔室中以支撑多个基板；腔室盖，所述腔室盖覆盖所述处理腔室的上部；以及处理气体分配单元，所述处理气体分配单元安装在所述腔室盖中，以向所述基板支撑单元分配处理气体，其中，所述处理气体分配单元包括安装在所述腔室盖中的分配体以及面向所述基板支撑单元的等离子体电极，并且所述等离子体电极包括第一等离子体电极和第二等离子体电极，所述第二等离子体电极比所述第一等离子体电极短。