[发明专利]新颖介离子性杀虫化合物在审
申请号: | 201780055210.2 | 申请日: | 2017-09-25 |
公开(公告)号: | CN109715628A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 加茂智浩;长谷川慎二;笼原裕磨;上野翔太郎;三宅孝明;小林武;松田龙星;浅野周 | 申请(专利权)人: | 日本化药株式会社 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;A01C1/08;A01G7/00;A01N43/90;A01N47/02;A01P7/04;A61K31/519;A61P33/14 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 陈曦;向勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明的目的为提供一种介离子性化合物或其盐,该化合物对各种有害生物显示更优异的防除效果。式(1)所述的介离子性化合物或其盐。 |
||
搜索关键词: | 式( 1 ) 氢原子 离子性化合物 杀虫化合物 离子性 氧原子 乙烯基 苯基 式中 | ||
【主权项】:
1.一种式(1)表示的化合物或其盐,
式中,R1表示Ra或C1烷基,于此,C1烷基经一个以上的Ra取代;R2表示经3个为止的Rb所取代的苯基;R3表示:Ra,C1至C6烷基,于此,C1至C6烷基经下列取代基取代:一个以上的Ra、和/或经一个以上Ra取代的C3至C6环烷基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C6烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C3至C6环烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C6烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C6烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C6烷磺酰基、和/或胺基,于此,胺基有独立选自氢原子、C1至C4烷基、及C2酰基的2个取代基,其中C1至C4烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基;C2酰基经一个以上Ra取代、和/或‑C(=O)O‑C1至C4烷基的经C1至C4烷基取代的酯基,于此,C1至C4烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基、和/或经一个以上Rb取代的苯基、和/或经一个以上Rb取代的杂环基,于此,杂环基由碳原子2至6个及杂原子1至2个构成环,且杂原子独立选自氧原子、氮原子、及硫原子,C2至C6烯基,于此,C2至C6烯基经一个以上Ra取代,C2至C6炔基,于此,C2至C6炔基经一个以上Ra取代,C3至C10环烷基,于此,C3至C10环烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C6烷基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,经一个以上Rb取代的苯基,或经一个以上Rb取代的杂环基于此,杂环基由碳原子2至6个及杂原子1至2个构成环,且杂原子独立选自氧原子、氮原子、及硫原子;R4表示:Ra,C1至C6烷基,于此,C1至C6烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C3至C6环烷基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C3至C6环烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,C2至C6烯基,于此,C2至C6烯基经一个以上Ra取代,C2至C6炔基,于此,C2至C6炔基经一个以上Ra取代、C1至C6烷氧基,于此,C1至C6烷氧基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,胺基,于此,胺基有独立选自氢原子、C1至C4烷基、及C2至C6酰基的2个取代基,其中,C1至C4烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基;C2至C6酰基经一个以上Ra取代,C1至C4烷硫基,C1至C4烷亚砜基,或C1至C4烷磺酰基,于此,C1至C4烷硫基、C1至C4烷亚砜基、及C1至C4烷磺酰基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基;R5表示经一个以上Ra取代的C1至C4亚烷基、经一个以上Ra取代的C2至C4亚烯基、或经一个以上Ra取代的C2至C4亚炔基;X表示直接键结、O、S(O)0至2、NRc、N(Rc)‑C(=O)、N+(Rc)2、OC(=O)、或OC(=O)O;各Ra独立选自氢原子、卤原子、氰基、硝基、SCN基、及羟基;各Rb独立选自下列基团:Ra,五氟硫基,C1至C6烷基,于此,C1至C6烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,C2至C3烯基,于此,C2至C3烯基经一个以上Ra取代,C2至C3炔基,于此,C2至C3炔基经一个以上Ra取代,C1至C6烷氧基,于此,C1至C6烷氧基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,胺基,于此,胺基具有独立选自氢原子、C1至C4烷基、及C2酰基的2个取代基,其中C1至C4烷基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基;C2酰基经一个以上Ra取代,C1至C4烷硫基,C1至C4烷亚砜基,及C1至C4烷磺酰基,于此,C1至C4烷硫基、C1至C4烷亚砜基、C1至C4烷磺酰基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,经一个以上Ra取代的苯基,及经一个以上Ra取代的杂环基;各Rc独立地选自下列基团:Ra,C1至C4烷基,C2至C3烯基,C2至C3炔基,C3至C6环烷基,C1至C6烷氧基,C1至C4烷硫基,C1至C4烷亚砜基,C1至C4烷磺酰基,苯基,杂环基,于此,该杂环基由碳原子2至6个及杂原子1至2个构成环,杂原子独立选自氮原子、氧原子、及硫原子所组成的组,于此,C1至C4烷基、C2至C3烯基、C2至C3炔基、C3至C6环烷基、C1至C6烷氧基、C1至C4烷硫基、C1至C4烷亚砜基、C1至C4烷磺酰基、苯基、及该杂环基经下列取代基取代:一个以上Ra、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷氧基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷硫基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷亚砜基、和/或经一个以上Ra取代的C1至C3烷磺酰基,C2至C3烯基,C2至C3炔基,及C2酰基,于此,C2至C3烯基、C2至C3炔基、及C2酰基经一个以上Ra取代。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本化药株式会社,未经日本化药株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780055210.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。