[发明专利]一种衍射光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 201780055299.2 | 申请日： | 2017-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN110235050B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 石井房雄;中西美纪子;高桥和彦;油川雄司;村上圭一 | 申请（专利权）人： | 株式会社NTT都科摩;石井房雄 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;G02B27/00;G02B5/00;B05D3/10;G02B5/18;B29C33/38;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京市炜衡律师事务所 11375 | 代理人： | 许育辉 |
| 地址： | 日本东京都千代田区永田*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了生产DOE、HOE和菲涅耳光学元件的制造方法。这些方法能够实现具有高精度的低成本制造。该方法包括光刻、卷对卷压印和UV铸造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衍射 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造方法，具有以下步骤：计算DOE的相移函数以2π的间距将相移函数切割成切片相移函数，使得具有锯齿形状的切片相位函数具有与每个切片中的所述相移函数的斜率相同的斜率，以及准备N片光掩模，其产生2N个层级的阶梯，这些阶梯在每个位置处的斜率对应于所述切片相移函数的斜率，以及准备能够用所述光掩模使光致抗蚀剂曝光的曝光系统，以及准备涂有光致抗蚀剂的衬底，以及用所述光掩模使光致抗蚀剂曝光，以及使曝光的光致抗蚀剂显影以做出锯齿形脊，以及利用锯齿形脊的顶部在所述光致抗蚀剂上蚀刻所述衬底，以利用各向异性蚀刻剂在衬底上产生锯齿脊的比例形状，以及利用各向同性蚀刻剂来蚀刻具有栅栏和尖角的衬底，以去除栅栏和尖角。
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