[发明专利]基于沟槽深度的电磁感应监测进行的过抛光在审
| 申请号： | 201780056471.6 | 申请日： | 2017-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN110177649A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 沈世豪;J·唐;J·张;D·M·盖奇 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013;B24B49/12;H01L21/304;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;钱慰民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在基板的抛光期间，从第一原位监测系统接收第一信号，并从第二原位监测系统接收第二信号。基于第一信号来确定其中导电层被清除且基板的下层介电层的顶表面被暴露的清除时刻。确定经确定的清除时刻的第二信号的初始值。将偏移和初始值相加以生成阈值，且在第二信号与阈值相交时触发抛光终点。 | ||
| 搜索关键词： | 第二信号 系统接收 原位监测 基板 电磁感应 抛光期间 抛光终点 导电层 顶表面 过抛光 介电层 偏移 触发 下层 相交 监测 暴露 | ||
【主权项】：
1.一种抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于保持抛光垫；承载头，所述承载头用于在抛光期间保持基板抵靠所述抛光垫；第一原位监测系统，所述第一原位监测系统具有第一传感器，所述第一传感器用于在抛光期间监测所述基板并被配置为生成第一信号，所述第一信号取决于导电层的清除以及所述基板的下层介电层的顶表面的暴露；第二原位监测系统，所述第二原位监测系统具有单独的第二传感器，所述第二传感器用于在抛光期间监测所述基板并被配置为生成第二信号，所述第二信号取决于所述介电层中的沟槽中的导电材料的厚度，所述第二原位监测系统是电磁感应监测系统；以及控制器，所述控制器被配置为：接收来自所述第一原位监测系统的所述第一信号，并且基于所述第一信号来确定清除时刻，在所述清除时刻所述导电层被清除；接收所述第二信号，并且确定在所述确定的清除时刻的所述第二信号的初始值；将偏移与所述初始值相加以生成阈值；以及在所述第二信号与所述阈值相交时触发抛光终点。
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