[发明专利]光学设备用遮光部件有效
| 申请号： | 201780056562.X | 申请日： | 2017-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN109791229B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 外川优衣 | 申请（专利权）人： | 索马龙株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B7/02;G02B5/20;G02B5/02;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙) 11670 | 代理人： | 潘卫锋 |
| 地址： | 日本国东京*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种简单制程即可制造的、具有优异的反射防止性能、能够应用于小型化、薄型化的光学设备之光学设备用遮光部件；所述光学设备用遮光部件表面，基于JIS B0601:2001测出的轮廓算数平均偏差Ra为0.5微米以上、且使最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之差(Rp‑Rv)小于3；光学设备用遮光部件优选为具有基材膜以及形成于所述基材膜的至少一方的面上之遮光层。另外，所述遮光层的平均膜厚为2微米至35微米。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 备用 遮光 部件 | ||
【主权项】：
1.一种光学设备用遮光部件，其特征在于，所述遮光部件基于JIS B0601：2001测出的所述遮光部件表面轮廓算数平均偏差Ra为0.5微米以上，且最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之差(Rp‑Rv)小于3。
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