[发明专利]集成在硅控制底板上的竖直发射器在审

专利信息
申请号: 201780057434.7 申请日: 2017-09-18
公开(公告)号: CN109716600A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: M·德拉德;A·拉弗莱奎尔 申请(专利权)人: 苹果公司
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026;H01S5/183;H01L27/15;H01L25/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 边海梅
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种制造方法,该方法包括:通过在III‑V族半导体基板(20)上沉积多个外延层而制造竖直发射器(32)的阵列(22),以及在硅基板(26)上制造用于竖直发射器的控制电路(30)。将竖直发射器的相应前侧(52)粘结到硅基板,与控制电路对准。在粘结相应前侧之后,从竖直发射器的相应后侧(50)减薄III‑V族半导体基板,并在竖直发射器上方沉积金属迹线(78),以将竖直发射器连接到控制电路。
搜索关键词: 发射器 竖直 控制电路 半导体基板 硅基板 粘结 制造 发射器连接 沉积金属 控制底板 外延层 迹线 减薄 沉积 对准
【主权项】:
1.一种制造方法,包括:通过在III‑V族半导体基板上沉积多个外延层来制造竖直发射器阵列;在硅基板上制造用于所述竖直发射器的控制电路;将所述竖直发射器的相应前侧粘结到所述硅基板,与所述控制电路对准;在粘结所述相应前侧之后,从所述竖直发射器的相应后侧减薄所述III‑V族半导体基板;以及在减薄所述III‑V族半导体基板之后,在所述竖直发射器上方沉积金属迹线以将所述竖直发射器连接到所述控制电路。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苹果公司,未经苹果公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780057434.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top