[发明专利]高度取向的腐殖酸膜和由其衍生的高度传导性石墨膜以及含有其的装置在审
申请号: | 201780058111.X | 申请日: | 2017-07-24 |
公开(公告)号: | CN109715554A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 阿茹娜·扎姆;张博增 | 申请(专利权)人: | 纳米技术仪器公司 |
主分类号: | C01B32/182 | 分类号: | C01B32/182;C01B32/184;B82Y40/00;B05D1/36;B05D1/40;C08L99/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 牟静芳;郑霞 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种高度取向的腐殖酸膜,其包含化学结合或合并的并且基本上彼此平行的多个腐殖酸(HA)或化学官能化腐殖酸(CHA)片,其中所述膜具有从5nm至500μm的厚度、不小于1.3g/cm3?的物理密度、具有如通过X射线衍射测定的0.4nm至1.3nm的平面间间距d?002#191的六方碳平面、和按重量计低于5%的非碳元素含量或氧含量。 | ||
搜索关键词: | 腐殖酸 高度取向 化学官能化 彼此平行 非碳元素 化学结合 传导性 石墨膜 重量计 合并 | ||
【主权项】:
1.一种高度取向的腐殖酸膜,其包含化学结合或合并的并且基本上彼此平行的多个腐殖酸(HA)或化学官能化腐殖酸(CHA)片,其中,所述膜具有从5nm至500μm的厚度、不小于1.3g/cm3的物理密度、具有如通过X射线衍射测定的0.4nm至1.3nm的平面间间距d002的六方碳平面、和按重量计低于5%的非碳元素含量或氧含量。
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