[发明专利]在其上形成有光屏蔽膜的波导及其制造方法在审
| 申请号： | 201780060170.0 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN109790967A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 金雅琳;俞在贤;朴圣恩;金俊衡 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | F21V8/00 | 分类号： | F21V8/00;C09C1/48 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 张云志;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种波导及其制造方法，所述波导具有形成在所述平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜，该光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，并且基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.7至1.0。 | ||
| 搜索关键词： | 光屏蔽膜 波导 平面波导 制造 切割 | ||
【主权项】：
1.一种波导，包括形成在平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜：其中，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.7至1.0。
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