[发明专利]光学体、光学体的制造方法及发光装置在审

专利信息
申请号: 201780060314.2 申请日: 2017-09-27
公开(公告)号: CN109791248A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 菊池正尚;梶谷俊一;野上朝彦;樱井恭子;林部和弥 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00;F21S2/00;G02B1/118;G02B5/00
代理公司: 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 代理人: 刘昕;孟祥海
地址: 日本国东京都品川区大崎*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种新型改良的光学体、光学体的制造方法及发光装置,其目的在于能够使来自光源的光以更多样的形态发射。为了实现上述目的,根据本发明的构思而提供一种光学体,其包括:基材;以及第一凹凸结构,在基材的至少一个表面上形成,从基材的侧面取出向基材的内部入射的内部传播光;第一凹凸结构的凹凸的平均周期为可见光波段的最小值以上且10μm以下。
搜索关键词: 光学体 基材 凹凸结构 发光装置 可见光波段 凹凸的 入射 光源 制造 取出 改良 侧面 发射 传播
【主权项】:
1.一种光学体,其特征在于,包括基材;以及第一凹凸结构,在所述基材的至少一个表面上形成,从所述基材的侧面取出向所述基材的内部入射的内部传播光;所述第一凹凸结构的凹凸的平均周期为可见光波段的最小值以上且10μm以下。
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