[发明专利]用于分析高清晰度电磁波的方法和设备有效
| 申请号： | 201780060780.0 | 申请日： | 2017-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109844474B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 伯诺瓦·瓦特利耶;阿奈·圣托扬 | 申请（专利权）人： | 菲兹克斯公司 |
| 主分类号： | G01J9/02 | 分类号： | G01J9/02 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 法国塞纳*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种方法，包括：通过衍射元件(2)接收入射电磁波(9)，并通过衍射元件(2)将入射电磁波(9)转换为衍射电磁波(10)；由矩阵阵列传感器(4)接收衍射电磁波(10)，该矩阵阵列传感器(4)包括沿一个或两个像素对准轴(13、14)排列的像素的矩阵阵列。该方法包括通过矩阵阵列传感器(4)对衍射电磁波(10)的信号进行几次采集，该采集与衍射元件(2)和矩阵阵列传感器(4)之间的多个相对位置相对应。本发明还涉及实现该方法的设备(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 清晰度 电磁波 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于分析电磁波的方法，包括：‑由衍射元件(2)接收入射电磁波(9)，并且由所述衍射元件(2)将该入射电磁波(9)转换为衍射电磁波(10)，‑由矩阵阵列传感器(4)接收衍射电磁波(10)的干涉图案，所述矩阵阵列传感器(4)具有沿一个或两个像素对准轴(13、14)排列的像素矩阵阵列，所述方法包括由矩阵阵列传感器(4)对衍射电磁波(10)的信号进行几次采集，所述采集对应于衍射元件(2)与矩阵阵列传感器(4)之间的几个相对位置，所述方法包括：根据对应于衍射元件(2)与矩阵阵列传感器(4)之间的几个相对位置的几次采集来计算入射电磁波(9)的不同感兴趣点的强度和/或相位梯度和/或相位的值，其特征在于，衍射元件(2)产生入射电磁波(9)到传感器(4)的至少三个衍射级。
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