[发明专利]制作非均匀衍射光栅有效
| 申请号： | 201780061380.1 | 申请日： | 2017-10-03 |
| 公开（公告）号： | CN110036317B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | M·梅利;C·佩罗兹 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;H01J37/317;G02B6/136;H01J37/305;G02B5/18;G02B27/01;G02B27/42 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制造非均匀光栅的方法包括：将不同密度的离子注入到基底的对应区域中；例如通过光刻来图案化位于基底上的抗蚀剂层；使用图案化的抗蚀剂层蚀刻基底；然后从基底去除抗蚀剂层，留下具有至少一个光栅的基底，该至少一个光栅具有与注入到所述区域中的不同离子密度相关的非均匀特性。该方法还可以包括使用具有光栅的基底作为模具来例如通过纳米压印光刻制造具有对应非均匀特性的对应光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 均匀 衍射 光栅 | ||
【主权项】：
1.一种制造非均匀结构的方法，所述方法包括：将不同密度的离子注入到基底的对应区域中；图案化位于所述基底上的抗蚀剂层；然后使用所述图案化的抗蚀剂层蚀刻所述基底，留下具有至少一个非均匀结构的所述基底，所述至少一个非均匀结构具有与注入到所述区域中的所述不同离子密度相关的非均匀特性。
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