[发明专利]用于多核苷酸合成的纹理化表面在审

专利信息
申请号: 201780061546.X 申请日: 2017-08-02
公开(公告)号: CN110088281A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 安德烈斯·费尔南德斯;皮埃尔·F·尹德穆勒;尤金·P·马什;威廉·巴尼亚伊;比尔·J·佩克 申请(专利权)人: 特韦斯特生物科学公司
主分类号: C12N15/10 分类号: C12N15/10;C12N15/66;C40B50/00;C40B50/14;C40B50/18
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 贺淑东
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文针对用于从头多核苷酸合成的表面提供了方法、装置和系统,该从头多核苷酸合成提供增加的多核苷酸产量。本文所述的表面包含增加表面积的纹理,与非纹理化表面相比,其提供增加的多核苷酸产量。另外,核苷偶联试剂跨越这类表面的图案化放置提供了提高的合成产量、呈现,以及表面上不同多核苷酸种类之间的污染的减少。
搜索关键词: 多核苷酸合成 多核苷酸 纹理化表面 偶联试剂 纹理 图案化 核苷 与非 合成 污染
【主权项】:
1.一种用于多核苷酸合成的装置,所述装置包含:包含表面的固体支持物;在所述表面上的多个座位,其中每个所述座位包含:内部区域,其中所述内部区域包含多个凹陷或突起;以及包含多个第一分子的外部区域,其中所述外部区域跨越并延伸超出所述内部区域,并且其中每个所述第一分子均结合至所述表面并包含能够与核苷结合的反应性基团。
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