[发明专利]用于移除半导体基材上残余物的清洁制剂在审
| 申请号： | 201780062080.5 | 申请日： | 2017-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN109790028A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 朴起永;E·A·克内尔;T·多瑞;高桥智威 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C01B21/14 | 分类号： | C01B21/14;C11D3/30;C11D7/50 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明关于清洁组合物，其含有1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种有机溶剂，其选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、及水溶性醚所组成的组；3)至少一种含金属的添加剂；及4)水。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体基材 清洁组合物 氧化还原剂 清洁制剂 水溶性醇 水溶性醚 水溶性酮 水溶性酯 有机溶剂 残余物 移除 添加剂 金属 自由 | ||
【主权项】：
1.一种清洁组合物，包括：1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种有机溶剂，其选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯及水溶性醚所组成的组；3)至少一种含金属的添加剂；及4)水。
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