[发明专利]等离子体处理装置及用于运行等离子体处理装置的方法有效
| 申请号： | 201780063133.5 | 申请日： | 2017-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109804454B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | J·马伊 | 申请（专利权）人： | 迈尔博尔格(德国)有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/46 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 邓斐 |
| 地址： | 德国霍恩施泰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有处理腔室、至少一对微波等离子体源和至少一个电源的等离子体处理装置。每对微波等离子体源由第一微波等离子体源和第二微波等离子体源组成，其中，第一微波等离子体源和第二微波等离子体源分别具有等离子体源壁部，并且在该等离子体源壁部之内具有微波耦入装置和等离子体电极。第一微波等离子体源和第二微波等离子体源在处理腔室内部布置在一个或多个待处理的衬底的相同的侧上且彼此相邻地布置。第一微波等离子体源和第二微波等离子体源的等离子体电极彼此电绝缘并且与至少一个电源导电地连接。在此，至少一个电源适合于，使第一微波等离子体源和第二微波等离子体源得等离子体电极加载以不同的电势。此外，本发明涉及一种用于运行这样的等离子体处理装置的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 用于 运行 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，所述等离子处理装置具有：‑处理腔室，‑至少一对微波等离子体源，所述至少一对微波等离子体源包括第一微波等离子体源和第二微波等离子体源，其中，所述第一微波等离子体源和所述第二微波等离子体源分别具有等离子体源壁部，并且在所述等离子体源壁部之内具有微波耦入装置和等离子体电极，所述第一微波等离子体源和所述第二微波等离子体源在所述处理腔室内部布置在一个或多个待处理的衬底的相同的侧上并且彼此相邻地布置，并且所述第一微波等离子体源和所述第二微波等离子体源的等离子体电极彼此电绝缘，以及‑至少一个电源，所述电源与所述第一微波等离子体源和所述第二微波等离子体源的等离子体电极导电地连接，并且适合于以不同的电势加载所述等离子体电极。
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