[发明专利]组合物和使用该组合物的设备的制造方法有效
申请号: | 201780063876.2 | 申请日: | 2017-10-13 |
公开(公告)号: | CN109843853B | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 菅优介;榎本智至 | 申请(专利权)人: | 东洋合成工业株式会社 |
主分类号: | C07C381/12 | 分类号: | C07C381/12;C07C43/315;C07D317/22;C07D333/76;C09K3/00;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/38 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
地址: | 日本国千叶县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供适用于使用电子束或极紫外线等第1活性能量线和UV等第2活性能量线这2种活性能量线的光刻工艺用抗蚀剂组合物的、高敏感度且LWR等图案特性优异的鎓盐和组合物。根据本发明,提供由下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)、和下述通式(12)中的任一者表示的鎓盐。【化1】 |
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搜索关键词: | 组合 使用 设备 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种鎓盐,其由选自下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)和下述通式(12)中的任一者表示,【化1】
所述式(1)中,R11和R12各自独立地为选自可具有取代基的直链、支链或环状的碳原子数1~12的烷基;可具有取代基的直链、支链或环状的碳原子数1~12的烯基;可具有取代基的碳原子数6~14的芳基;以及可具有取代基的碳原子数4~12的杂芳基;中的任一者,所述R11、R12和锍基所键合的芳基中的任二者以上,可以由单键直接形成环结构,或者介由选自氧原子、硫原子、含氮原子的基团和亚甲基中的任一者形成环结构,所述环结构包含与R11、R12和锍基所键合的芳基键合的硫原子,所述R11和R12中的至少1个亚甲基可以被含二价杂原子的基团取代,R13和R14各自独立地为选自烷基、羟基、巯基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳基硫烷基羰基、芳基硫烷基、烷基硫烷基、芳基、杂芳基、芳氧基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、芳基磺酰基、(甲基)丙烯酰氧基、羟基(聚)亚烷基氧基、氨基、氰基、硝基和卤素原子中的任一者,具有碳时的碳原子数为1~12,且它们可以具有取代基,R15和R16各自独立地为选自可具有取代基的直链、支链或环状的碳原子数1~12的烷基;可具有取代基的直链、支链或环状的碳原子数1~12的烯基;可具有取代基的碳原子数6~14的芳基;以及可具有取代基的碳原子数4~12的杂芳基;中的任一者,所述R15和R16可以由单键直接彼此键合形成环结构,或者介由选自氧原子、硫原子和亚烷基中的任一者彼此键合形成环结构,所述R15和R16中的至少1个亚甲基可以被含二价杂原子的基团取代,L2为选自直接键;直链、支链或环状的碳原子数1~12的亚烷基;碳原子数1~12的亚烯基;碳原子数6~14的亚芳基;碳原子数4~12的亚杂芳基;以及这些基团介由氧原子、硫原子或含氮原子的基团键合而成的基团;中的任一者,L3选自直接键、亚甲基、硫原子、含氮原子的基团和氧原子,Y为氧原子或硫原子,h和i各自独立地为1~3的整数,h为1时j为0~4的整数,h为2时j为0~6的整数,h为3时j为0~8的整数,i为1时k为0~5的整数,i为2时k为0~7的整数,i为3时k为0~9的整数,X‑表示一价抗衡阴离子,所述式(2)中,R13~R16、L2、L3、Y、h~k和X‑各自独立地选自与所述式(1)的R13~R16、L2、L3、Y、h~k和X‑相同的选择项,R17为选自可具有取代基的芳基和可具有取代基的杂芳基中的任一者,R17可以和碘鎓基所键合的芳基彼此键合并与它们所键合的碘原子一起形成环结构,所述式(11)中,R11~R16、L2、Y、h~k和X‑各自独立地选自与所述式(1)的R11~R16、L2、Y、h~k和X‑分别相同的选择项,L4和L5各自独立地为选自直接键、碳原子数为2的亚烯基、碳原子数为2的亚炔基、以及羰基中的任一者,所述式(12)中,R13~R17、L2、Y、h~k和X‑各自独立地选自与所述式(2)的R13~R17、L2、Y、h~k和X‑分别相同的选择项,L4和L5各自独立地为选自直接键、碳原子数为2的亚烯基、碳原子数为2的亚炔基、以及羰基中的任一者。
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