[发明专利]在压印光刻过程中定位基板有效
申请号: | 201780064029.8 | 申请日: | 2017-09-08 |
公开(公告)号: | CN109952537B | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | R·帕特森;C·S·卡登;S·萨达姆 | 申请(专利权)人: | 分子印记公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;B29C59/02;H01L21/027 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 牛晓玲;吴鹏 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 用于定位基板的压印光刻方法包括将第一和第二基板分别支承在第一和第二卡盘顶上,将第一和第二卡盘沿横向气动地悬挂在第一和第二套管内,在第一和第二套管内沿竖向支承第一和第二卡盘,保持第一和第二卡盘分别处于第一和第二固定旋转取向,以及分别克服第一和第二竖向阻力彼此独立地沿向下方向迫压第一和第二卡盘,直到第一和第二基板的第一和第二顶面共平面,同时保持第一和第二卡盘被沿横向悬挂在第一和第二套管内并且同时保持第一和第二卡盘处于第一和第二固定旋转取向。 | ||
搜索关键词: | 压印 光刻 过程 定位 | ||
【主权项】:
1.一种用于定位基板的压印光刻方法,所述压印光刻方法包括:将第一基板和第二基板分别支承在第一卡盘和第二卡盘顶上;将所述第一卡盘和第二卡盘分别沿横向气动地悬挂在第一套管和第二套管内;将所述第一卡盘和第二卡盘分别沿竖向支承在所述第一套管和第二套管内;保持所述第一卡盘和第二卡盘分别处于第一和第二固定旋转取向;以及分别克服第一和第二竖向阻力彼此独立地沿向下方向迫压所述第一卡盘和第二卡盘,直到所述第一基板和第二基板的第一顶面和第二顶面共平面,同时保持所述第一卡盘和第二卡盘被沿横向悬挂在所述第一套管和第二套管内并且同时保持所述第一卡盘和第二卡盘处于所述第一和第二固定旋转取向。
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