[发明专利]含有填料的膜在审

专利信息
申请号: 201780064897.6 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN109996837A 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 三宅健;久我生子;塚尾怜司 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;B32B7/02;B32B27/20;H01B5/16;H01R11/01
代理公司: 北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338 代理人: 邢悦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种能够以更小的推力精密地压至电子部件的含有填料的膜,具有填料规则地配置于树脂层中的填料分散层,平面观察时填料的面积占有率为25%以下,树脂层的层厚(La)与填料的平均径(D)之比(La/D)为0.3以上1.3以下,相对于填料整体,填料彼此相互非接触地存在的个数比例为95%以上。相对于填料整体,填料彼此相互非接触地存在的个数比例优选为99.5%以上。
搜索关键词: 非接触 树脂层 面积占有率 电子部件 平面观察 填料分散 层厚 优选 精密 配置
【主权项】:
1.一种含有填料的膜,具有填料规则地配置于树脂层中的填料分散层,平面观察时填料的面积占有率为25%以下,树脂层的层厚La与填料的粒径D之比La/D为0.3以上1.3以下,相对于填料整体,填料彼此相互非接触地存在的个数比例为95%以上。
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