[发明专利]用于在光致抗蚀剂衬底上生成图案的光刻设备

摘要

在本公开的一个实施例中，提出了一种用于在光致抗蚀剂衬底上生成结构的光刻设备，光刻设备包括光照单元和光掩模。光掩模的显著之处在于它包括至少一个电介质材料层和折射率低于所述电介质材料的折射率的介质，其中，该至少一个电介质材料层的表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化，并且其中，至少所述表面相对于所述台阶和来自所述光照单元的电磁波的传播方向的基部和侧部与所述介质接触。

主权项

1.一种用于在光致抗蚀剂衬底上生成结构的光刻设备，所述光刻设备包括光照单元和光掩模，其中，所述光掩模生成纳米喷射近场图案，该纳米喷射近场图案直接修改所述光致抗蚀剂衬底以获得所述结构，并且其中，所述光掩模包括至少一个电介质材料层以及折射率低于所述电介质材料的折射率的介质，其中，所述至少一个电介质材料层的表面具有形成台阶的至少一个突然的水平变化，并且其中，至少所述表面相对于所述台阶和来自所述光照单元的电磁波的方向的基部和侧部与所述介质接触，并且其中，所述纳米喷射近场图案是来自所述表面的所述基部和侧部的电磁波的相长干涉。