[发明专利]双环式含氮杂环化合物在审
申请号: | 201780066055.4 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN109937038A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 中岛辰雄;林则充;石泽公平;津崎康则;岩村亮;坪池一成 | 申请(专利权)人: | 田边三菱制药株式会社;宇部兴产株式会社 |
主分类号: | A61K31/437 | 分类号: | A61K31/437;A61K31/4985;A61K31/519;A61K31/52;A61K31/53;A61K31/55;A61P1/04;A61P9/10;A61P11/02;A61P11/06;A61P17/00;A61P17/06;A61P19/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;焦成美 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供特定的双环式含氮杂环化合物作为PDE7抑制剂的新型用途、以及具有PDE7抑制作用的新型双环式含氮杂环化合物、其制造方法及其应用、以及含有上述PDE7抑制剂或化合物的药物组合物等。具体而言,本发明提供以式(I)表示的化合物或其药理学上可容许的盐作为有效成分的PDE7抑制剂〔式中,符号具有说明书中记载的含义〕。 | ||
搜索关键词: | 含氮杂环化合物 式( I ) 双环式 药理学 药物组合物 新型双环 新型用途 式中 应用 制造 | ||
【主权项】:
1.PDE7抑制剂,其以式(I)表示的化合物或其药理学上可容许的盐作为有效成分,[化学式1]式(I)中,下式(I‑1)表示的部分结构表示选自由下式(I‑1‑A)、下式(I‑1‑B)、下式(I‑1‑C)及下式(I‑1‑D)组成的组中的部分结构,[化学式2][化学式3]式(I‑1‑A)中,X1a为CRX1a或N,X2a为CRX2a或N,X3a为CRX3a或N,X1a、X2a及X3a中的1或2个为N,Z1a为CRZ1a或N,Z2a为CRZ2a或N,[化学式4]式(I‑1‑B)中,X1b为CRX1b或N,X2b为CRX2b或N,X3b为CRX3b或N,X1b、X2b及X3b中的0、1或2个为N,Z1b为CRZ1b或N,Z2b为CRZ2b或N,[化学式5]式(I‑1‑C)中,X1c为CRX1c或N,X2c为CRX2c或N,X3c为CRX3c或N,X1c、X2c及X3c中的1或2个为N,Z1c为CRZ1c或N,Z2c为NRZ2c或O,[化学式6]式(I‑1‑D)中,X1d为CRX1d或N,X2d为CRX2d或N,X3d为CRX3d或N,X1d、X2d及X3d中的1或2个为N,Z1d为NRZ1d或O,Z2d为CRZ2d或N,RX1a、RX1b、RX1c及RX1d各自独立地表示氢原子、可被取代的烷基、或卤素,RX2a、RX2b、RX2c及RX2d各自独立地表示氢原子、可被取代的烷基、可被取代的烷氧基或可被取代的烷硫基,RX3a、RX3b、RX3c及RX3d各自独立地表示氢原子、可被取代的烷基、可被取代的环烷基、卤素、氰基或可被取代的芳基,RZ1a、RZ1b及RZ1c各自独立地表示氢原子、羟基或可被取代的烷基,RZ1d表示氢原子或可被取代的烷基,RZ2a、RZ2b及RZ2d各自独立地表示氢原子、可被取代的烷基、可被取代的环烷基、或卤素,RZ2c表示氢原子或可被取代的烷基,L表示单键或CRL1RL2,RL1及RL2各自独立地为氢原子或可被取代的烷基,或者RL1和RL2各自独立地为亚烷基且彼此键合并与它们所键合的碳原子共同形成可被取代的单环式饱和烃基,并且Cy为:(i)可被1~5个相同或不同的取代基取代的芳基,所述取代基选自:可被取代的烷基;可被取代的烷氧基;卤素;及可被取代的羧酰胺基,(ii)可被1~5个相同或不同的取代基取代的杂芳基,所述取代基选自可被取代的烷基、及卤素,(iii)可被1~5个相同或不同的取代基取代的脂环式烃基,所述取代基选自:可被取代的烷基;可被取代的烯基;可被取代的烷叉基;可被取代的烷氧基;羟基;卤素;氧代基;可被取代的芳基;及可被取代的杂芳基,或者(iv)可被1~5个相同或不同的取代基取代的非芳香族杂环基,所述取代基选自:可被取代的烷基;可被取代的环烷基;可被取代的烷氧基;羟基;卤素;氧代基;可被取代的芳基;可被取代的杂芳基;可被取代的烷基羰基;甲酰基;可被取代的烷氧基羰基;及可被取代的芳基羰基。
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