[发明专利]在去除美容品污渍中作为活性成分的甘油乙氧基化物在审
| 申请号： | 201780066914.X | 申请日： | 2017-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN109963930A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 卡鲁马纳斯里·奇丹巴拉·耶尔·纳拉扬;弗拉伊·法尔汉·N·艾尔-阿纳齐;穆罕默德·S·巴卡拉;卡西姆·阿梅德·A·加兹瓦尼 | 申请（专利权）人： | 沙特基础工业全球技术有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/00 | 分类号： | C11D1/00;C11D3/37;C11D1/72;C11D1/831;C11D3/16;C11D1/83 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 李海霞 |
| 地址： | 荷兰贝尔根*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于从基底上去除化妆品材料的组合物包括甘油乙氧基化物和直链烷基苯磺酸盐(LABS)。向在白色涤棉混纺织物处包括化妆品材料的沉积物以提供被玷污的涤棉混纺织物的污渍施加所述组合物，表现出增加的污渍去除率，其是作为在460nm处观察到的与在所述施加之前在所述被玷污的涤棉混纺织物处观察到的反射率相比增加至少约35％的反射率测量的。包括被施加到所述被玷污的涤棉混纺织物的组合物的处理提供的在所述被玷污的涤棉混纺织物处的反射率，大于在被化妆品材料的沉积物玷污的并且已经用所述甘油乙氧基化物单独处理或者已经用所述直链烷基苯磺酸盐单独处理的白色涤棉混纺织物处观察到的反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 涤棉混纺织物 玷污 甘油乙氧基化物 化妆品材料 反射率 沉积物 直链烷基苯磺酸盐 单独处理 污渍 施加 观察 反射率测量 污渍去除 美容品 基底 去除 表现 | ||
【主权项】：
1.一种用于从基底上去除化妆品材料的组合物，所述组合物包含：甘油乙氧基化物；和直链烷基苯磺酸盐(LABS)，其中，向在白色涤棉混纺织物处包含化妆品材料的沉积物以提供被玷污的涤棉混纺织物的污渍施加所述组合物，表现出增加的污渍去除率，其是作为在460nm处观察到的与在所述施加之前在所述被玷污的涤棉混纺织物处观察到的反射率相比增加至少约35％的反射率测量的，且其中，包含被施加到所述被玷污的涤棉混纺织物的组合物的处理提供的在所述被玷污的涤棉混纺织物处的反射率，大于在被化妆品材料的沉积物玷污的并且已经用所述甘油乙氧基化物单独处理或者已经用所述直链烷基苯磺酸盐单独处理的白色涤棉混纺织物处观察到的反射率。
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