[发明专利]粉尘去除装置和粉尘去除系统有效
| 申请号： | 201780067087.6 | 申请日： | 2017-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN109890521B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 大津芳文;中山徹;江口茂行;今野宏一;稻叶淳一;齐藤昭男;菅野浩二;白井庸介;山本正义 | 申请（专利权）人： | SMC株式会社 |
| 主分类号： | B08B5/00 | 分类号： | B08B5/00;B23Q11/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 崔巍 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在粉尘去除装置(10)的喷嘴主体(20)所具备的压缩流体供给部(54)设置有针形螺纹件(66)，该针形螺纹件调整第一流体供给路径(80)的流路面积，从而调整来自喷射喷嘴(16)的第一压缩流体的喷射流量。另一方面，通过使在喷嘴主体(20)形成的喷嘴主体侧调整螺纹(28)和在吸引喷嘴(18)形成的吸引喷嘴侧调整螺纹(38)旋转，来调整第二流体供给路径(84)的流路面积，从而调整向排出流路(72)放出的第二压缩流体的吸引流量。 | ||
| 搜索关键词： | 粉尘 去除 装置 系统 | ||
【主权项】：
1.一种粉尘去除装置(10、10A～10K)，在将喷射喷嘴(16)插入对象物(12)的孔(14)，并利用围绕该喷射喷嘴(16)的吸引喷嘴(18)使所述孔(14)封闭了的状态下，从所述喷射喷嘴(16)向所述孔(14)喷射压缩流体，并利用所述吸引喷嘴(18)对附着于所述孔(14)的粉尘和所述压缩流体进行吸引，该粉尘去除装置的特征在于，具备：中空状的喷嘴主体(20)，该喷嘴主体连结有所述喷射喷嘴(16)和所述吸引喷嘴(18)，且将被该吸引喷嘴(18)吸引了的所述粉尘和所述压缩流体向外部排出；喷射量调整部(66)，该喷射量调整部调整从所述喷射喷嘴(16)喷射的所述压缩流体的流量；以及吸引量调整部(28、38)，该吸引量调整部调整被所述吸引喷嘴(18)吸引的所述粉尘和所述压缩流体的量，在所述喷嘴主体(20)形成有：第一流体供给路径(80)，该第一流体供给路径将从外部供给的压缩流体的一部分作为第一压缩流体向所述喷射喷嘴(16)供给，而使所述喷射喷嘴(16)喷射该第一压缩流体；和第二流体供给路径(84)，该第二流体供给路径将从外部供给的压缩流体的另一部分作为第二压缩流体向所述喷嘴主体(20)中的所述粉尘和所述第一压缩流体的排出方向的下游侧放出，利用所述第二压缩流体向所述排出方向的下游侧的放出，所述粉尘和所述第一压缩流体经由所述吸引喷嘴(18)和所述喷嘴主体(20)而被向外部排出，所述喷射量调整部(66)通过调整所述第一流体供给路径(80)的流路面积，来调整从所述喷射喷嘴(16)喷射的所述第一压缩流体的流量，所述吸引量调整部(28、38)调整所述第二流体供给路径(84)的流路面积而调整向所述排出方向的下游侧放出的所述第二压缩流体的流量，从而调整被所述吸引喷嘴(18)吸引的所述粉尘和所述压缩流体的量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SMC株式会社，未经SMC株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780067087.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：清洗半导体硅片的装置和方法
- 下一篇：用于将管道中的堵塞物去除的打钻装置
