[发明专利]基质辅助激光解吸/离子化质量分析方法在审
| 申请号： | 201780067888.2 | 申请日： | 2017-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN109906377A | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 金泰晚;金度勋;安宗錄;朴翰浯 | 申请（专利权）人： | 株式会社百奥尼 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;H01J49/16;H01J49/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及基质辅助激光解吸离子化(Matrix‑Assisted Laser Desorpt ion Ionization)质量分析方法，详细而言，根据本发明的质量分析方法包括：使分析对象物质进行基质辅助激光解吸离子化而得到质谱，分别利用两个以上的彼此不同的基质而得到作为分析对象物质的质谱的检测谱的步骤；以及在各个检测谱中去除该基质的峰而获得基质‑去除谱后，基于彼此不同的各个基质的基质‑去除谱而得到分析对象物质的校正的质谱的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 基质 分析对象物质 质量分析 质谱 去除 基质辅助激光解吸离子化 基质辅助激光解吸 离子化 检测 校正 | ||
【主权项】：
1.一种基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，包括：使分析对象物质进行基质辅助激光解吸离子化而得到质谱，分别利用两个以上的彼此不同的基质而得到作为分析对象物质的质谱的检测谱的步骤；以及在各个检测谱中去除该基质的峰而获得基质‑去除谱后，基于彼此不同的各个基质的基质‑去除谱而得到分析对象物质的校正的质谱的步骤。
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