[发明专利]含荧光体膜及背光单元有效

专利信息
申请号: 201780068835.2 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN109964155B 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 大场达也;远山浩史;柿下健一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;F21S2/00;F21V9/00;G02F1/13357;F21Y115/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供一种能够抑制荧光体的劣化、能够抑制由基材膜的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体膜及背光单元。本发明通过如下含荧光体膜来解决课题,该含荧光体膜具有:含荧光体层,具备具有氧不透过性且形成有分散的凹部的树脂层及配置于凹部的荧光区域;及第1基材膜和第2基材膜,该第1基材膜层叠于含荧光体层的其中一个面上,该第2基材膜层叠于相反面上,荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体和粘合剂,第1基材膜包含支撑膜和设置在与含荧光体层对置的面侧的无机层,就树脂层而言,弹性模量为0.5~10GPa、凹部的底部的厚度为0.1~20μm。
搜索关键词: 荧光 背光 单元
【主权项】:
1.一种含荧光体膜,具有:含荧光体层,其具有对氧具有不透过性且形成有离散配置的多个凹部的树脂层、及配置在形成于所述树脂层的凹部的多个荧光区域;及第1基材膜和第2基材膜,所述第1基材膜层叠于所述含荧光体层的其中一个主表面上,所述第2基材膜层叠于所述含荧光体层的另一个主表面上,所述荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体、及粘合剂,所述第1基材膜包含支撑膜及设置在所述支撑膜的与所述含荧光体层对置的面侧的无机层,所述树脂层的弹性模量为0.5~10GPa,所述树脂层的所述凹部的底部的厚度为0.1~20μm。
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