[发明专利]发光用纳米晶体复合体在审

专利信息
申请号: 201780069785.X 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN109952359A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 桑名康弘;延藤浩一;初阪一辉;青木良夫;山口英彦 申请(专利权)人: DIC株式会社
主分类号: C09K11/08 分类号: C09K11/08;C07C33/24;C07C33/28;C07C33/46;C07C57/38;C07C57/58;C07C63/66;C07C211/27;C07C211/29;C07C321/10;C07C323/07;C07D213/16;C07D213/26
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;金鲜英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明所要解决的课题是提供一种发光用纳米晶体复合体,其在高分子基质中容易有序地分散,并且在具有介晶结构的交联性高分子基质中分散性优异。本申请发明为一种发光用纳米晶体复合体,其特征在于,为包含发光用纳米晶体和对前述发光用纳米晶体的表面进行修饰的表面修饰化合物的发光用纳米晶体复合体,前述表面修饰化合物具有介晶骨架、以及与前述发光用纳米晶体表面结合的基团。
搜索关键词: 纳米晶体 发光 复合体 表面修饰 介晶 交联性高分子 纳米晶体表面 高分子基质 分散性 基质 修饰 申请
【主权项】:
1.一种发光用纳米晶体复合体,其特征在于,为包含发光用纳米晶体和对所述发光用纳米晶体的表面进行修饰的表面修饰化合物的发光用纳米晶体复合体,所述表面修饰化合物具有介晶性基团、以及与所述发光用纳米晶体表面结合的基团。
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