[发明专利]使用叠层差异的设计和校正有效
| 申请号： | 201780069903.7 | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN110140087B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 蒋爱琴;A·J·登鲍埃夫;K·巴塔查里亚;H·范德拉恩;B·菲瑟;M·J·J·杰克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/956;H01L21/66 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法包括：获得是用于图案化过程的、是量测目标的叠层差异参数的函数的所述量测目标的重叠的数据的拟合；以及通过硬件计算机使用所述拟合的斜率以：(i)区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案；或者(ii)计算重叠的校正值；或者(iii)指示利用所述量测目标获得的重叠测量值应该被使用或者不应该被使用，以配置或修改所述图案化过程的方面；或者(iv)选自(i)至(iii)中的任意组合。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 差异 设计 校正 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：获得用于图案化过程的、是量测目标的叠层差异参数的函数的所述量测目标的重叠的数据的拟合；和通过硬件计算机使用所述拟合的斜率以：(i)区分一个量测目标测量选配方案与另一个量测目标测量选配方案；或者(ii)计算重叠的校正值；或者(iii)指示利用所述量测目标获得的重叠测量值应该被使用或者不应该被使用，以配置或修改所述图案化过程的方面；或者(iv)选自(i)至(iii)中的任意组合。
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