[发明专利]导电性膜和导电性膜的制造方法有效
| 申请号： | 201780070104.1 | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN109937458B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 藤平惠;清水诚吾;山田俊辅;山木繁;基里达·古纳努鲁克萨蓬 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;B05D7/24;B05D5/12;B32B27/18 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 袁波;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种导电性膜，具有：高分子膜、形成在高分子膜的至少一面的基底树脂层、以及，包含平均直径为1～100nm且长宽比的平均为100～2000的金属纳米线、和粘结剂树脂且形成在基底树脂层之上的导电层。导电层的表面电阻值为1.0×10 |
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| 搜索关键词： | 导电性 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种导电性膜，其具有：高分子膜；基底树脂层，其形成在所述高分子膜的至少一面；以及导电层，其形成在所述基底树脂层之上，包含平均直径为1～100nm且长宽比的平均为100～2000的金属纳米线和粘结剂树脂，所述导电层的表面电阻值为1.0×102～1.0×106Ω/□且所述表面电阻值的偏差为15％以下。
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