[发明专利]电解镍(合金)镀覆液有效

专利信息
申请号: 201780070617.2 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN109996907B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 柴田和也;大平原祐树 申请(专利权)人: 日本高纯度化学株式会社
主分类号: C25D3/12 分类号: C25D3/12;C25D7/00
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供一种电解镍(合金)镀覆液,是在通过镍或镍合金(18)来填充电子电路零件内的微小孔或微小凹部(14)时,可在不会产生孔隙或细缝等缺陷下进行填充,且于接合2个以上电子零件时,通过填充微小间隙部,可令电子零件牢固地彼此接合。此外,该课题在于提供一种使用该电解镍(合金)镀覆液的镍或镍合金镀覆填充方法、微小三维构造体的制造方法、电子零件接合体及其制造方法。通过使用含有特定的N‑取代吡啶鎓化合物的电解镍(合金)镀覆液来填充微小孔或微小凹部(14),可解决上述课题。
搜索关键词: 电解 合金 镀覆
【主权项】:
1.一种电解镍镀覆液或电解镍合金镀覆液,其含有:镍盐、pH缓冲剂、以及以下述通式(A)所表示的N‑取代吡啶鎓化合物;通式(A)中,‑R1为碳数1至6的烷基、烷胺基或氰基烷基、胺基(‑NH2)或氰基;‑R2为氢原子、碳数1至6的烷基或羟烷基、乙烯基、甲氧基羰基(‑CO‑O‑CH3)、胺甲酰基(‑CO‑NH2)、二甲基胺甲酰氧基(‑O‑CO‑N(CH3)2)或醛肟基(‑CH=NOH);X为任意的阴离子。
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