[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法

摘要

本发明提供一种能够曝光细微光致抗蚀剂图案的多灰阶半色调掩模。其解决方法在于，在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部，相位偏移膜使曝光光的相位反转，相位偏移膜的透过率低于半透膜的透过率。并且，在半透过部与相位偏移部邻接的边界部，形成有半透膜、相位偏移膜和蚀刻阻挡膜的叠层膜，蚀刻阻挡膜由不被半透膜和相位偏移膜的蚀刻液蚀刻的材质构成。其结果，实现具有半色调的效果和相位偏移效果双方的光掩模。

主权项

1.一种光掩模，其特征在于：在透明基板上具有半透过部、相位偏移部、边界部和透光部，所述透光部包括所述透明基板露出的部分，所述半透过部由设置在所述透明基板上的半透膜形成，所述相位偏移部由设置在所述透明基板上的相位偏移膜形成，所述边界部由所述半透过部与所述相位偏移部邻接的区域形成，所述边界部的宽度在一定宽度以下，所述边界部由依次形成有所述相位偏移膜、蚀刻阻挡膜、所述半透膜的叠层构造膜形成，并且，除所述边界部以外的所述半透过部、所述相位偏移部和所述透光部的所述蚀刻阻挡膜被去除，所述边界部的宽度为使用所述光掩模的投影曝光装置的分辨率极限以下。