[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法

摘要

本发明的课题在于提供一种能够兼顾图案细微化和多灰阶的半色调掩模。其解决手段在于在透明基板上具有：包括第一半透膜的第一半透过区域；包括上述第一半透膜与第二半透膜的叠层的第二半透过区域；透明区域；以及第一半透过区域与第二半透过区域邻接的区域，上述第一和第二半透过区域对曝光光的透过率分别为10～70[％]和1～8[％]，第二半透过区域使曝光光的相位反转。其结果，在邻接的第一半透过区域与第二半透过区域的边界部分，曝光光的强度分布陡峭地变化，能够改善经曝光后的光致抗蚀剂图案的剖面形状。

主权项

1.一种光掩模，其特征在于：在透明基板上具有：包括第一半透膜的第一半透过区域；叠层有所述第一半透膜和第二半透膜的第二半透过区域；所述第一半透膜和所述第二半透膜均不存在的透明区域；和所述第一半透过区域和所述第二半透过区域邻接的区域，所述第一半透过区域对于曝光光的透过率为10～70[％]，所述第二半透过区域对于曝光光的透过率为1～8[％]，并且，反转曝光光的相位，其中，将所述第一半透膜的相位偏移角设为α[度]、将所述第二半透膜的相位偏移角设为β[度]时，所述第一半透膜和所述第二半透膜的叠层膜满足180－α≤β≤180的关系。