[发明专利]用于处理材料的激光系统和方法有效
申请号: | 201780071352.8 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN109996640B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 阿列克谢·阿夫多欣;潘乔·察内科夫;安德瑞·巴布什金;乔纳森·埃尔曼;杰弗里·克迈蒂克 | 申请(专利权)人: | IPG光子公司 |
主分类号: | B23K26/06 | 分类号: | B23K26/06;B23K26/352;B23K26/40;H01S3/067 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 潘军 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 多波长激光处理系统配置有多波长激光源,用于产生多波长的同轴激光处理光束。激光处理系统还包括多波长光学系统,以将同轴激光处理光束递送到工件表面上的激光‑材料相互作用区,使得处理光束中的第一激光波长和第二激光波长中的每个激光波长作为相应的第一同心激光斑和第二同心激光斑至少照射相互作用区的一部分。多波长光学系统包括多波长光束准直器、可配置的彩色光学器件和激光处理聚焦透镜,其中可配置的彩色光学器件提供对第一激光波长和第二激光波长的相对焦距的调整。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 材料 激光 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种工件的激光加工方法,包括:将基波波长的第一宽带非偏振光纤激光光束部分地转换为至少一个谐波波长的第二光束;沿着路径引导第一光束和一个第二光束,所述第一光束和所述第二光束同轴且在时间上重叠;将所述第一光束和所述一个第二光束照射在所述工件的表面上,所述工件在基波波长和谐波波长处分别具有不同的吸收系数;控制所述第一光束和所述一个第二光束之间的通量比以至少等于吸收系数比的倒数以增加所述工件对所述第一光束的吸收系数,所述第二光束在所述吸收系数比的倒数处提供材料状态改变所且具有比所述第一光束的焦平面更靠近所述表面的焦平面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于IPG光子公司,未经IPG光子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780071352.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:照射装置和具有该照射装置的加工机
- 下一篇:用于基于激光的处理的方法和装置