[发明专利]光刻限定的通孔中的可扩展嵌入式硅桥通孔柱及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201780071671.9 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN109952640A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: A.A.埃尔舍比尼;H.布劳尼施;J.索托冈萨莱斯;S.M.利夫 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/485;H01L23/48;H01L21/027
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张凌苗;申屠伟进
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 包括高互连通孔柱的嵌入式硅桥系统是封装器件中的系统的部分。高通孔柱可以跨越Z高度距离到来自键合焊盘的随后的键合焊盘,该键合焊盘是容纳嵌入式硅桥的有机衬底的部分。
搜索关键词: 键合焊盘 嵌入式 硅桥 封装器件 高度距离 互连通孔 有机衬底 可扩展 通孔柱 高通 光刻 孔柱 通孔 容纳 制造
【主权项】:
1.一种封装中的半导体器件,包括:有机衬底,其中有机衬底包括:第一键合焊盘;在第一键合焊盘上方和在第一键合焊盘上的第一通孔,其中第一通孔从第一键合焊盘垂直延伸;以及在第一通孔上方并与第一通孔电连接的随后的键合焊盘;具有开口的阻焊层,其中一个开口暴露随后的键合焊盘;以及嵌入有机衬底中的半导体桥,其中半导体桥包括通孔柱,所述通孔柱在与第一通孔相同的垂直方向上从硅桥垂直延伸,并且其中通孔柱垂直延伸到至少第一通孔。
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