[发明专利]带涂覆层的偏振片的制造方法在审

专利信息
申请号: 201780071836.2 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN109983376A 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 石原康隆;岸敦史 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B05D5/00;B32B7/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种防止涂覆层的耐候性的降低、涂覆层与偏振片的保护膜的密合性优异的带涂覆层的偏振片的制造方法。本发明的带涂覆层的偏振片的制造方法是如下带涂覆层的偏振片的制造方法,该带涂覆层的偏振片包含偏振片和涂覆层,该偏振片具备起偏器和配置在该起偏器的至少一个面上的保护膜,该涂覆层形成于至少1片该保护膜的与该起偏器相反一侧的面;该制造方法包括:将该起偏器与该保护膜进行层叠而形成偏振片后,形成该涂覆层。
搜索关键词: 涂覆层 偏振片 保护膜 起偏器 制造 密合性 耐候性 配置
【主权项】:
1.一种带涂覆层的偏振片的制造方法,该带涂覆层的偏振片包含:偏振片,该偏振片具备起偏器和配置在该起偏器的至少一个面上的保护膜;及涂覆层,该涂覆层形成于至少1片该保护膜的与该起偏器相反一侧的面上;该带涂覆层的偏振片的制造方法包括:将该起偏器与该保护膜进行层叠而形成偏振片后,形成该涂覆层。
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