[发明专利]带涂覆层的膜的制造方法有效
| 申请号： | 201780071896.4 | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN110023083B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 石原康隆;岸敦史 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;B32B7/023;B32B7/027;B32B37/02;G02B1/111;G02B1/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在薄的膜上形成涂覆层的带涂覆层的光学膜的制造方法，其能够在不产生皱褶等的情况下制造带涂覆层的膜。本发明的带涂覆层的膜的制造方法包括：在厚度为25μm以下且刚柔性为40mm以下的膜的一个面上层叠保护片材；以及在该膜的另一个面上形成涂覆层；该保护片材的算术平均表面Ra为0.1μm以下，该保护片材的刚柔性为40mm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 覆层 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种带涂覆层的膜的制造方法，其包括：在厚度为25μm以下且刚柔性为40mm以下的膜的一个面上层叠保护片材；及在该膜的另一个面上形成涂覆层；该保护片材的与该膜相反一侧的面的算术平均表面Ra为0.1μm以下，该保护片材的刚柔性为40mm以上。
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