[发明专利]经由原位产生还原性气体的金属氧化物的低温直接还原在审
| 申请号： | 201780072385.4 | 申请日： | 2017-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN110191967A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | K·M·亨利-史密斯;A·D·基尔斯;L·P·C·巴特施;A·C·穆尔 | 申请（专利权）人： | 环境清洁技术有限公司 |
| 主分类号： | C21B13/04 | 分类号： | C21B13/04;C22B5/00;C22B1/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李跃龙 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 澳大利亚;AU |
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| 摘要： | 一种使用原位产生的还原性气体，由碳质材料低温还原金属氧化物的连续方法。特别地，一种以连续法将金属氧化物还原成金属的方法，包括：(a)将包含紧密接触且干混比为约1:2至约1:10的低等级碳质材料和含金属氧化物材料的复合体连续引入立式干馏炉的上部区域；(b)将所述体由所述上部区域输送至所述干馏炉的加热的下部区域，其中所述复合体暴露于最高约950℃的提高的温度，并且其中所述复合体暴露于原位生成的还原性气体约15分钟至约3小时的时间，由此制造含还原金属的产物；并(c)从干馏炉的下部区域中连续取出含还原金属的产物。 | ||
| 搜索关键词： | 还原性气体 金属氧化物 复合体 还原金属 上部区域 碳质材料 下部区域 原位产生 干馏炉 金属氧化物材料 立式干馏炉 低温还原 原位生成 直接还原 连续法 暴露 干混 加热 还原 取出 金属 引入 制造 | ||
【主权项】：
1.以连续法将金属氧化物还原成金属的方法，包括：(a)将包含紧密接触且干混比为约1:2至约1:10的低等级碳质材料和含金属氧化物材料的复合体连续引入立式干馏炉的上部区域；(b)将所述体由所述上部区域输送至所述干馏炉的加热的下部区域，其中所述复合体暴露于最高约950℃的提高的温度，并且其中所述复合体暴露于原位生成的还原性气体约15分钟至约3小时的时间，由此制造含还原金属的产物；并(c)从干馏炉的下部区域中连续取出含还原金属的产物。
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