[发明专利]组合物、光漫射器和由其形成的装置以及相关方法

摘要

本发明公开了一种组合物，所述组合物包含(I)芳基组分；(II)甲基组分；以及(III)硅氢加成催化剂。所述(I)芳基组分包含(A)有机聚硅氧烷和(B)有机氢聚硅氧烷。类似地，所述(II)甲基组分包含(A)有机聚硅氧烷和(B)有机氢聚硅氧烷。本发明还公开了一种制备组合物的方法。此外，本发明公开了一种制备制品(例如，光漫射器)的方法和包括所述光漫射器的照明装置。最后，本发明公开了一种用所述光漫射器漫射透射光的方法。

主权项

1.一种组合物，所述组合物包含：(I)芳基组分，所述芳基组分包含：A.具有以下平均公式的有机聚硅氧烷：R_aSiO_(4‑a)/2其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团，前提条件是在一个分子中，R中的至少两者包括烯键式不饱和度，并且所有R基团中的至少20摩尔百分比(％)为芳基基团，并且其中选择a使得0.5≤a≤2.2；以及B.具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷：R¹_bH_cSiO_{(4‑b‑c)/2}其中每个R¹为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烃基基团，前提条件是在一个分子中，所有R¹基团的至少5摩尔百分比(％)为芳基基团，并且选择b和c使得1.0＜b＜2.2；0.002＜c＜1；并且1.0＜b+c＜3.0；其中组分(I)(A)和(I)(B)以一定量存在于所述芳基组分中，以提供0.3至5的组分(I)(B)中硅键合的氢原子与组分(I)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比；并且(II)甲基组分，所述甲基组分包含：A.具有以下平均公式的有机聚硅氧烷：R²_dSiO_(4‑d)/2其中每个R²为独立选择的取代或未取代的烃基基团，前提条件是在一个分子中，R²中的至少两者包括烯键式不饱和度，并且所有R²基团中的至少20摩尔百分比(％)为甲基基团，并且其中选择d使得0.5≤d≤2.2；以及B.具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷：R³_eH_fSiO_{(4‑e‑f)/2}其中每个R³为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烃基基团，前提条件是在一个分子中，所有R³基团的至少20摩尔百分比(％)为甲基基团，并且选择e和f使得1.0＜e＜2.2；0.002＜f＜1；并且1.0＜e+f＜3.0；其中组分(II)(A)和(II)(B)为以一定量存在于所述甲基组分中以提供0.3至5的(II)(B)中硅键合的氢原子与(II)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比；以及(III)硅氢加成催化剂；其中基于组分(I)和(II)的总重量计，组分(I)以0.15重量％至21.0重量％的量存在于所述组合物中。